概要
マルチモード光ファイバ出射端面のNFP（ニアフィールドパターン）を観察します。光源には850nmLD光源を使用します。NFP計測光学系は当社製高機能型NFP計測光学系 M-Scope type Sを使用、対物レンズはM-Plan Apo 20倍を使用します。検出器は、当社製高精度デジタルCCD検出器 ISA011を使用します。
応用事例・技術情報
【応用事例 File B-2】 850nmLD光源を使用してマルチモード光ファイバの出射端NFPを測定する
測定系
測定ブロック図
測定系の構成
- 光ビームNFP計測装置
- 光源
- FCコネクタ出力型温調高安定LD光源（850nm） LSL002/850
- 光学系
- 高機能光ビームNFP計測光学系 M-Scope type S
- 対物レンズ
- 対物レンズ20倍 M-Plan Apo 20
- 検出器
- 高精度デジタルCCD検出器 ISA011
- データ処理解析装置
- 光ビーム解析モジュール AP013
- その他
- 手動3軸ステージ付ファイバ測定用光学系架台 OP002-F3
測定結果1（ビーム形状解析・ビーム幅計測）
850nm LD光源を使用したマルチモード光ファイバ出射端NFPの観察画像と測定結果を左図および下記に示します。
- 水平方向 52.342um / 垂直方向 52.940um（1/e幅）
- 測定条件
- 総合倍率：20倍（対物レンズ20倍）
- 画素分解能：0.2325um
- 暗電流補正：有
- 積算回数：8回
測定結果2（エンサークルドフラックス解析）
本構成品にて、エンサークルドフラックス解析を行うことができます。左記は、上記条件にて取得したNFP計測画像から求めたエンサークルドフラックス計測結果です。
- EFグラフ：左記に示します。
- EF解析条件
- 中心：面積重心
- 基準解析範囲設定：30um
- 解析半径係数：1.15
- 解析ピッチ：0.1um
- バックグラウンド処理：有（係数1.2）